第155章 图形发生器 (第2/2页)
实际上，激光头其实就是个大功率的电子显微镜，它发出的光不仅可以成像，能量还足以刻蚀物体表面。
而电子显微镜是核心部件是电磁透镜，它用电磁原理来偏移光头产生的光束，达到类似光学透镜效果，
但控制它焦距的，其实是磁性大小，也就是产生磁力的电磁线圈里的电流大小，
所以，光头的电子束，完全可以通过电磁透镜进行拐弯，实现精确的偏转度，因而机械精度并没不需要那么高！
很多人隐隐觉得龙国机械精度不够，因而绝不可能有最精密的光刻机，这实在是太多虑了！
电子透镜的精度，其实只决定于光源的波长，跟机械精度没关系！
科技进步能用先进原理和设计方法，碾压煮饭仙人的旧工艺！
说得容易，李三彪和老罗搞定了一切，已经过了两个礼拜，终于开始正式测试了。
李三彪装入涂有光刻胶的掩膜，调节电镜，优化一番电镜参数，通过电镜控制窗口设置400微米曝光场，然后将工件台精确调整到调整到电镜下面。
在紧张地呼吸声中，李三彪用这台国产机器开始它的第一次实验。
仔细对掩膜聚焦后，暂时关闭了电子束。在曝光窗口设定合适的曝光参数，开始第一次曝光。
取出掩膜显影，在光学显微镜下观察一番，当检查无误后，进行第二层曝光。
芯片或者掩膜一共有很多层，每一层出现瑕疵，这个产品便已经作废。
过去废品率非常高，还是摩托罗拉70年代初在发明6800芯片时，技术有了突破，芯片才可以量产，而在这之前，芯片生产时废品率高达95%。
李三彪这个掩膜一共四层，加上其他结构，需要七八次曝光。
第一个样品，在第五次曝光出现了瑕疵，烧掉了一大部分晶体区，宣告失败。
曝光过度了，说明此光刻胶无法承受预定的曝光参数，需要降低光头功率。
经过四五次尝试，李三彪和老罗终于掌握了光刻胶与电子束的曝光关系，刻出了第一只全国产掩膜！
经过多人用光镜电镜的反复检验，证明这只掩膜是完美无缺的！
老罗四十多岁的汉子，竟然流出了纵横的泪水。
“太好了，我们总算在之前看到了国产掩膜，这下我死也甘心了！”
李三彪道；“罗总您先去看病吧，我们还要研究国产光刻设备呢，您一定能活着看到！”
罗建福不肯相信，道：“癌症是不治之症，我不愿意耽误时间，浪费国家的钱，你们让我也加入光刻机的研究组吧！”
李三彪和沈田惠一阵无奈，实在不忍心冷了老罗的心，只要同意了。
沈田惠道：“其实别的单位有了不少光刻机，我们也不用从头研制，”
李三彪问道：“我们目前有什么国产光刻设备?水平如何？您都见过吗？”
沈田惠有点为难，道：“我觉得，这些设备水平参差不齐，我们既然是自己使用，还是得自己研发。”