第278章 光刻机测试（下） (第1/1页)
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梁安平亲自动手，使用专用夹具，将光刻完的几十片硅晶圆装进专用容器，拿去芯片生产线那边，去进行后续的刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等步骤。
两个多小时之后，所有工序走完，几十片硅晶圆，变成了一千多枚封装完成的ARM1芯片。吴志航、吴光辉、梁安平等高管和研发人员，开始动手对这批芯片进行全面测试。半小时后，所有芯片测试完成，梁安平对测试结果进行了汇总，最后宣布道：“此次一微米光刻机测试，共选用了35片硅晶圆，加工过后，切割封装成1750枚芯片。经全面测试，合格产品共1203枚，合格率为68.7%。也就是说，咱们光刻机研发实验室生产的第一台一微米光刻机，第一次开机测试生产，就成功了，且合格率已经达到了晶圆工厂内现有几台佳能和尼康光刻机的加工水平。”
听完梁安平的发言，吴志航带头鼓掌，其他北极星高管和研发人员，以及其他负责封装测试的员工也很快跟上，现场爆发出一阵热烈的掌声。
“没想到，新设备第一次光刻测试就成功了，梁教授他们这些人真是牛。”
“那是当然，光刻机研发实验室是咱们北极星公司和中科院半导体研究所、深圳大学，共同合作建立的，里面工作的研究员，学历最低的也是硕士研究生，能不厉害吗。”
“芯片生产线最核心的设备光刻机研发成功了，其他相关设备的研发难度就低多了，也许咱们北极星公司有一天，可以生产整条芯片生产线上的所有设备。”
“没那么容易，整条芯片生产线上的设备太多了，咱们北极星不可能分心生产这么多的东西。”
“第一次光刻测试，产品合格率就达到了68.7%，再做一些参数优化，将合格率提升到70%、80%，也不是不可能。”
接下来，吴志航和梁安平等人去食堂吃了一餐迟来的午饭，然后返回无尘车间，对光刻机进行进一步的测试，包括极限加工精度测试，最高光刻速度测试，长时间压力测试等等。
此后半个月，又有两台北极星自产的一微米光刻机加入测试，随着设备参数的不断修改优化，一些零配件的小修小改，生产的芯片合格率已经提升到了81%。作为一家刚刚成立不到半年的晶圆工厂，这个合格率已经相当高了。
11月中旬，北极星公司和中科院、深圳大学，合作研发的一微米光刻机正式定型量产。为此，三家单位特意举行了一个表彰大会，还叫来了几名报刊杂志和电视台的记者，对此进行报道。在这次的表彰大会上，对光刻机研发小组全体成员进行了通报嘉奖，所有人都获得了北极星公司提供的一万到十万不等的奖金。在改革开放之初的八三年，人民币非常的坚挺，万元户在特区深圳也是凤毛麟角的存在。如今一大批搞光刻机研发的技术人员，轻轻松松成为万元户，甚至十万元户，造成的轰动效果可想而知。
消息见报不到一周，北极星公司就接到了五台一微米光刻机订单，都是国内的几大电子研究所订购的，用于国产芯片的研发制造。吴志航当初投资研发光刻机，本来就没想过依靠它盈利，量产型号的光刻机，对外售价只有百万人民币。这个价格只有国外同类产品的三分之一左右，可谓是物美价廉。可惜这年月，国内的晶圆工厂大多不成气候，后续订单就算有，也不会有太多。好在北极星公司自己就有晶圆工厂，且盈利丰厚，只要自产光刻机能完美替代进口产品，且能跟随摩尔定律不断升级进化，花再多的研发资金也是值得。
表彰大会之后，吴志航召集全体光刻机研发室实验室成员，召开了一个研讨会，对下一步的研发计划和研发方向进行了部署。
在研讨会上，吴志航代表北极星公司率先发言，说道：“一微米光刻机已经研发成功，并定型量产，在座的诸位功不可没。但这一切都已经是过去式，接下来，咱们要在一微米光刻机的基础上，再接再厉，研发0.5微米制程的光刻机。我代表北极星公司表个态，不管研发过程中遭遇怎样的困难，需要投入几亿，十几亿，甚至几十亿的研发资金，我们北极星也在所不惜。接下来，有请梁教授就下一代光刻机研发计划，做一下总体规划。”
梁安平拿出一份手写的稿子，清了清嗓子说道：“当初吴老板提供的光刻机研发资料中，有一份0.5微米光刻机研发概要，点明了几个研发要点，包括光源，透镜系统，双工台，掩模台等等。其中双工台、掩膜台、控制系统、晶圆传输系统，可以通过一微米光刻机的相关部件进行升级改造达成，难度不是太大。但为了达到0.5微米的加工精度，光源系统和透镜系统需要重新设计，重新打造，这个难度不是一般的大。”
吴光辉跟着发言道：“我是搞激光技术出身，在光刻机光源方面有一定研究。光刻分辨率想要达到0.5微米，光源波长需要达到365nm以下，且对光源强度和均匀度都有非常严格的要求。咱们在一微米光刻机上使用的高压汞灯，理论上其极限能达0.35微米的加工精度，但需要对其结构进行彻底的改造，且越是接近极限，越难以达成。
而被业界普遍认定是下一代光刻机光源的KrF（氟化氪）准分子激光，光源波长为248nm，可以使最小工艺节点提升至350-180nm水平。当今世界上，很多激光相关的研究所，都在对准分子激光进行研发，进度参差不齐，达到实用水平的，一个都没有。
我的建议是，在光刻机光源方面，两种线路同时研发，哪个率先取得突破，下一代0.5微米光刻机上，就使用哪一种光源。”